Hafnium tetrachloride | Bột HFCL4 | CAS 13499-05-3 | Giá nhà máy

Mô tả ngắn:

Hafnium tetrachloride có các ứng dụng quan trọng như là tiền thân của oxit hafnium, chất xúc tác cho tổng hợp hữu cơ, ứng dụng hạt nhân và lắng đọng màng mỏng, làm nổi bật tính linh hoạt và tầm quan trọng của nó trong các lĩnh vực công nghệ khác nhau.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Gửi email cho chúng tôi

Chi tiết sản phẩm

Thẻ sản phẩm

Mô tả sản phẩm

Giới thiệu ngắn gọn

Tên sản phẩm: Hafnium tetrachloride
CAS số: 13499-05-3
Công thức ghép: HFCL4
Trọng lượng phân tử: 320.3
Ngoại hình: Bột trắng

Đặc điểm kỹ thuật

Mục	Đặc điểm kỹ thuật
Vẻ bề ngoài	Bột trắng
HFCL4+ZRCL4	≥99,9%
Zr	≤200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤5ppm
Al	≤60ppm

Ứng dụng

Tiền thân hafnium dioxide: Hafnium tetrachloride chủ yếu được sử dụng làm tiền chất để sản xuất hafnium dioxide (HFO2), một vật liệu có tính chất điện môi tuyệt vời. HFO2 được sử dụng rộng rãi trong các ứng dụng điện môi cao K cho bóng bán dẫn và tụ điện trong ngành công nghiệp bán dẫn. HFCL4 rất cần thiết trong việc sản xuất các thiết bị điện tử tiên tiến do khả năng tạo thành màng mỏng của hafnium dioxide.
Chất xúc tác tổng hợp hữu cơ: Hafnium tetrachloride có thể được sử dụng làm chất xúc tác cho các phản ứng tổng hợp hữu cơ khác nhau, đặc biệt là trùng hợp olefin. Các đặc tính axit Lewis của nó giúp hình thành các chất trung gian hoạt động, do đó cải thiện hiệu quả của các phản ứng hóa học. Ứng dụng này có giá trị trong việc sản xuất các polyme và các hợp chất hữu cơ khác trong ngành hóa chất.
Ứng dụng hạt nhân: Do mặt cắt hấp thụ neutron cao, hafnium tetrachloride được sử dụng rộng rãi trong các ứng dụng hạt nhân, đặc biệt là trong các thanh điều khiển của các lò phản ứng hạt nhân. Hafnium có thể hấp thụ neutron một cách hiệu quả, vì vậy nó là một vật liệu phù hợp để điều chỉnh quá trình phân hạch, giúp cải thiện sự an toàn và hiệu quả của việc phát điện hạt nhân.
Lắng đọng phim mỏng: Hafnium tetrachloride được sử dụng trong các quá trình lắng đọng hơi hóa học (CVD) để tạo thành màng mỏng của vật liệu dựa trên hafnium. Những bộ phim này rất cần thiết trong một loạt các ứng dụng, bao gồm vi điện tử, quang học và lớp phủ bảo vệ. Khả năng gửi các bộ phim đồng nhất, chất lượng cao làm cho HFCL4 có giá trị trong các quy trình sản xuất tiên tiến.