Hafni tetraclorua | Bột HfCl4 | CAS 13499-05-3 | giá xuất xưởng

Mô tả ngắn gọn:

Hafni tetraclorua có những ứng dụng quan trọng như một tiền chất của hafni oxit, chất xúc tác cho tổng hợp hữu cơ, ứng dụng hạt nhân và lắng đọng màng mỏng, làm nổi bật tính linh hoạt và tầm quan trọng của nó trong nhiều lĩnh vực công nghệ.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Gửi email cho chúng tôi

Chi tiết sản phẩm

Thẻ sản phẩm

Mô tả sản phẩm

Giới thiệu tóm tắt

Tên sản phẩm: Hafnium tetrachloride
Số CAS: 13499-05-3
Công thức hợp chất: HfCl4
Khối lượng phân tử: 320.3
Ngoại quan: Bột màu trắng

Đặc điểm kỹ thuật

Mục	Đặc điểm kỹ thuật
Vẻ bề ngoài	Bột trắng
HfCl4+ZrCl4	≥99,9%
Zr	≤200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤5ppm
Al	≤60ppm

Ứng dụng

Tiền chất Hafni Dioxide: Hafni tetraclorua chủ yếu được sử dụng làm tiền chất để sản xuất hafni dioxit (HfO2), một vật liệu có đặc tính điện môi tuyệt vời. HfO2 được sử dụng rộng rãi trong các ứng dụng điện môi k cao cho bóng bán dẫn và tụ điện trong ngành công nghiệp bán dẫn. HfCl4 rất cần thiết trong sản xuất các thiết bị điện tử tiên tiến do khả năng tạo thành màng mỏng hafni dioxit.
Chất xúc tác tổng hợp hữu cơ: Hafni tetraclorua có thể được sử dụng làm chất xúc tác cho nhiều phản ứng tổng hợp hữu cơ, đặc biệt là trùng hợp olefin. Tính chất axit Lewis của nó giúp hình thành các chất trung gian hoạt động, do đó cải thiện hiệu quả của các phản ứng hóa học. Ứng dụng này có giá trị trong sản xuất polyme và các hợp chất hữu cơ khác trong ngành công nghiệp hóa chất.
Ứng dụng hạt nhân: Do tiết diện hấp thụ neutron cao, hafni tetraclorua được sử dụng rộng rãi trong các ứng dụng hạt nhân, đặc biệt là trong các thanh điều khiển của lò phản ứng hạt nhân. Hafni có thể hấp thụ neutron hiệu quả, do đó là vật liệu thích hợp để điều chỉnh quá trình phân hạch, giúp cải thiện tính an toàn và hiệu quả của quá trình phát điện hạt nhân.
Lắng đọng màng mỏng: Hafni tetraclorua được sử dụng trong các quy trình lắng đọng hơi hóa học (CVD) để tạo thành màng mỏng vật liệu gốc hafni. Các màng này rất cần thiết trong nhiều ứng dụng, bao gồm vi điện tử, quang học và lớp phủ bảo vệ. Khả năng lắng đọng các màng đồng nhất, chất lượng cao làm cho HfCl4 trở nên có giá trị trong các quy trình sản xuất tiên tiến.